Código de referencia:
AR_UNSAM_EAyP_CEE.000269
Título:
Fondo Ignacio Pirovano
Fechas:
| Fecha |
Fecha Normalizada |
|
| 1944 - 1972 |
1944 - 1972 |
Fecha inclusiva |
Nivel de Descripción:
Fondo
Volumen y soporte de la unidad de descripción:
2 carpetas, 38 documentos.
Repositorio:
Centro de Estudios Espigas, EAyP, UNSAM
Perú 358, CABA, Argentina.
Productor
Pirovano, Ignacio (Productor)
Códigos anteriores
AR_UNSAM_IIPC_CEE.000269 (2019 - 2021-12)
Fecha(s) de adquisición:
1995
Donante
Pirovano, Celina
Alcance y contenido:
Originales y fotocopias de textos (datiloscritos): apuntes, borrador de publicación "Visión en movimiento", entrevista, discurso de Pirovano, borradores del texto "Reflexiones sobre el proceso creador", memorándum. Correspondencia (manuscrita y datiloscrita) con: Carmen Waugh, Tomás Maldonado, Mr. Vondemberge Gildewart. Postal. Reseña sobre Comte S.A. Publicación de Rafael Squirru. Fotografías (mobiliario). Artículos periodísticos, boletín del Centro de Investigación de Diseño Industrial.
Sistema de ordenamiento:
Cronológico
Valoración, selección y eliminación:
La documentación no se encuentra sujeta a valoración, selección y expurgo.
Crecimiento:
No se prevé.
Derechos/condiciones de acceso:
Consulta pública en la sede de Espigas solicitando cita previa a
[email protected].
Acceso físico:
No presenta requisitos técnicos para su visualización, sin embargo se solicita que la documentación sea manipulada respetando su integridad física.
Acceso técnico:
No presenta requisitos técnicos para su visualización, sin embargo se solicita que la documentación sea manipulada respetando su integridad física.
Derechos/condiciones de reproducción:
Los documentos pueden fotografiarse sin flash o digitalizarse siempre que no comprometa su estado de conservación. Para su publicación debe citarse el fondo documental y la institución. Asimismo conforme a la ley 11.723 en necesario solicitar autorización de los herederos para reproducir imágenes. Su difusión es libre para fines culturales, educativos y no comerciales.
Idioma y escritura del material:
Principal, EspañolParcial, Francés